Laatste zaak van het bedrijf over Guangzhou Cleanroom Construction Co., Ltd. Certificeringen

In het geavanceerde veld van de halfgeleiderfabricage kan elke kleine verandering in de productieomgeving een beslissende impact hebben op de productkwaliteit. Als professionele fabrikant met jarenlange diepgaande ervaring in de industrie van zuiveringsapparatuur, begrijpt Guangzhou Cleanroom Construction Co., Ltd. de kernpositie van de controle van het luchtdrukverschil in halfgeleider cleanrooms. Vandaag zullen we de oplossingen voor de controle van het luchtdrukverschil voor halfgeleider cleanrooms uitgebreid analyseren, om u te helpen een stabiele en efficiënte productieomgeving te creëren.

Het fabricageproces van halfgeleiderchips is uiterst delicaat. Zodra verontreinigingen zoals stofdeeltjes en micro-organismen worden gemengd, kunnen ze ernstige problemen veroorzaken, zoals kortsluiting en open circuits in chips. Neem het lithografieproces van geavanceerde chips als voorbeeld. De lijnbreedte op de chips heeft het nanometerniveau bereikt. Een stofdeeltje met een diameter van slechts 0,1 micrometer is voldoende om afwijkingen in het lithografiepatroon te veroorzaken, wat resulteert in het afkeuren van chips. Door het luchtdrukverschil redelijk te construeren en de cleanroom in een positieve druktoestand te houden, kunnen externe verontreinigingen effectief worden geblokkeerd, waardoor een onzichtbare beschermende barrière wordt opgebouwd voor de chip-productie.

De fabricage van halfgeleiders omvat een verscheidenheid aan complexe processen zoals lithografie, etsen en doteren. Elk proces heeft verschillende eisen voor omgevingstemperatuur, vochtigheid en reinheid. Een stabiel luchtdrukverschil kan ervoor zorgen dat de omgevingsparameters van elk gebied altijd binnen het door het proces vereiste bereik worden gehouden, wat een solide garantie biedt voor het soepele verloop van het proces. In het etsproces, als de luchtstroom onstabiel is, zal de verdeling van het etsgas ongelijkmatig zijn, wat leidt tot inconsistente etssnelheden en ernstige gevolgen heeft voor de etsnauwkeurigheid en de productkwaliteit van de chips.

• Kernproductiegebied: Belangrijke processen zoals lithografie, etsen en doteren worden in dit gebied uitgevoerd. Hier zijn de eisen voor reinheid en positieve druk extreem hoog. Het wordt aanbevolen dat de druk in het kernproductiegebied 15 - 25 Pa hoger is dan in de aangrenzende hulpgebieden, waardoor het risico op binnendringing van externe verontreinigingen wordt geminimaliseerd en ervoor wordt gezorgd dat het chipfabricageproces niet wordt verstoord door vervuiling.
• Hulp-productiegebied: Hulpgebieden zoals het tijdelijke opslaggebied voor materialen en het onderhoudsgebied voor apparatuur, hoewel de reinheidseisen iets lager zijn dan die van het kernproductiegebied, moeten nog steeds een bepaalde positieve druk handhaven. Over het algemeen is deze 5 - 10 Pa hoger dan gebieden zoals gewone gangen om te voorkomen dat verontreinigingen in de gangen het hulpgebied binnendringen en de omgeving van het kernproductiegebied in gevaar brengen.
• Personeels- en materiaaldoorgangen: Voor de doorgangen waar personeel en materialen de werkplaats in- en uitgaan, moet een redelijke drukverschilgradiënt zorgvuldig worden ingesteld om een ​​effectief luchtsluiseffect te creëren. Bij het betreden van de schone ruimte vanuit de niet-schone ruimte neemt de druk geleidelijk toe met elke doorgang, als lagen van controleposten, waardoor verontreinigingen effectief worden geblokkeerd om samen met personeel en materialen de cleanroom binnen te dringen.

• Hoge precisie druksensoren: De onafhankelijk ontwikkelde hogeprecisie druksensoren van Guangzhou Cleanroom Construction Co., Ltd. hebben uitstekende prestaties. Hun meetnauwkeurigheid kan ±0,1 Pa bereiken, waardoor de drukveranderingen in elk gebied van de werkplaats in realtime nauwkeurig kunnen worden vastgelegd, waardoor wordt gegarandeerd dat abnormale drukschommelingen onmiddellijk worden gedetecteerd en een sterke basis wordt gelegd voor het nemen van tijdige tegenmaatregelen.
• Intelligent ventilatiecontrolesysteem: Dit systeem is nauw verbonden met hogeprecisie druksensoren. Volgens de vooraf ingestelde drukverschilwaarden kan het automatisch en nauwkeurig de ventilatorsnelheid en de klepopening aanpassen, waardoor een intelligente en verfijnde controle van de luchtstroom wordt bereikt. Zodra het detecteert dat de druk in een bepaald gebied lager is dan de ingestelde waarde, reageert het systeem snel, waardoor automatisch het luchttoevoervolume wordt verhoogd of het luchtafvoervolume wordt verminderd om de druk snel weer op het normale niveau te brengen.

Kalibreer de druksensoren strikt om de zes maanden om de nauwkeurigheid en betrouwbaarheid van de meetgegevens te garanderen. Voer tegelijkertijd regelmatig een uitgebreide inspectie uit van de ventilatieapparatuur, controleer zorgvuldig of de ventilatorwaaiers versleten zijn, of de kleppen normaal kunnen openen en sluiten, enz., en vervang de verouderde of beschadigde componenten tijdig om ervoor te zorgen dat de apparatuur altijd in de beste bedrijfsconditie verkeert.

Voer systematische training uit over kennis van de controle van het luchtdrukverschil voor het werkplaatspersoneel, zodat ze de betekenis van de drukverschilcontrole en de afhandelingsmethoden van abnormale situaties diepgaand kunnen begrijpen. Wanneer er een drukverschilalarm optreedt, kan het personeel snel de mogelijke oorzaken analyseren, zoals defecten aan de apparatuur en lekkages in de pijpleidingen, en tijdig effectieve tegenmaatregelen nemen om de continuïteit en stabiliteit van de werkplaatsproductie te waarborgen.

Bouw een professioneel gegevensbewakingssysteem voor het luchtdrukverschil en voer een diepgaande analyse uit van de langdurig verzamelde drukgegevens. Door middel van gegevensanalyse kunnen potentiële problemen scherp worden opgespoord. Als de druk in sommige gebieden bijvoorbeeld vaak fluctueert, kan dit te wijten zijn aan defecten aan de apparatuur of een onredelijke luchtverdeling, en dan kunnen gerichte optimalisatieaanpassingen worden gedaan om de oplossingen voor de controle van het luchtdrukverschil continu te verbeteren.

Met diepgaande technische accumulatie en rijke projectervaring kan Guangzhou Cleanroom Construction Co., Ltd. niet alleen hoogwaardige zuiveringsapparatuur leveren, maar ook een volledig scala aan oplossingen voor de controle van het luchtdrukverschil en complete after-maintenance services aanpassen voor uw halfgeleider cleanroom. Als u van plan bent een halfgeleider cleanroom te bouwen of tijdens de werking van een bestaande werkplaats gerelateerde problemen tegenkomt, neem dan gerust contact met ons op. Laten we samenwerken om een ​​toonaangevende schone productieomgeving voor halfgeleiders te creëren en bij te dragen aan de ontwikkeling van de halfgeleiderindustrie.